Анализ эффективности: гидрофильный и гидрофобный пирогенный диоксид кремния для фотоэлектрических клеевых составов
Фотоэлектрический клей, являясь основным герметизирующим материалом для солнечных модулей, напрямую влияет на долговременную надежность и эффективность выработки электроэнергии модулями. Благодаря большой удельной поверхности и наноразмерным эффектам, осажденный диоксид кремния широко используется для регулирования реологических и механических свойств фотоэлектрических клеев.
В зависимости от различий в химических свойствах поверхности, осажденный диоксид кремния можно разделить на две основные категории: гидрофильные и гидрофобные . В качестве ключевых добавок в фотоэлектрических клеях, гидрофильный и гидрофобный осажденный диоксид кремния, из-за различий в поверхностных группах и свойствах, по-разному влияют на консистенцию клея, время высыхания поверхности, объемную прочность и прочность на сдвиг.
Техническая группа HIFULL систематически анализирует преимущества и недостатки этих двух типов пирогенного диоксида кремния в фотоэлектрических клеях, предоставляя справочную и научную базу для последующих потребителей фотоэлектрических клеев по оптимизации формул.
HIFULL®Гидрофильный пирогенный диоксид кремния в фотоэлектрических клеях
Консистенция, измеряющая сопротивление текучести, является критически важным свойством, влияющим на применение фотоэлектрических клеев. Экспериментальные данные показывают, что в диапазоне добавления от 0% до 5% оба типа осажденного диоксида кремния оказывают регулирующее воздействие на консистенцию. Среди них HL-200 демонстрирует большее изменение значения консистенции при том же уровне добавления, что указывает на лучший загущающий эффект по сравнению с HB-139.
В процессе склеивания фотоэлектрических модулей время высыхания поверхности напрямую влияет на эффективность дозирования и производительность работы. Результаты испытаний показывают, что при одинаковой концентрации добавки HB-139 обладает значительным преимуществом в контроле времени высыхания поверхности, сокращая его, в то время как HL-200 обеспечивает более длительное время высыхания. При увеличении концентрации добавки от 0% до 5% время высыхания поверхности как HB-139, так и HL-200 дополнительно сокращается. Однако при одинаковой концентрации добавки скорость изменения времени высыхания поверхности для HB-139 ниже, чем для HL-200.
Испытания на прочность на разрыв и относительное удлинение при разрыве демонстрируют различный армирующий эффект гидрофильных и гидрофобных наполнителей на основе пирогенного диоксида кремния в фотоэлектрических клеях. Данные показывают, что с увеличением концентрации наполнителя от 0% до 5% прочность фотоэлектрического клея непрерывно увеличивается.
Однако при одинаковом уровне добавления прочность на растяжение и удлинение при разрыве у HL-200 выше, чем у HB-139, что свидетельствует о том, что усиливающий эффект гидрофильного пирогенного кремнезема в фотоэлектрических клеях значительно лучше, чем у гидрофобного пирогенного кремнезема.
В испытаниях на сдвиг, имитирующих реальные рабочие условия, адгезионные свойства HL-200 и HB-139 чередуются. При добавлении 3% прочность на сдвиг у HL-200 выше, чем у HB-139. Однако при добавлении 4% прочность на сдвиг у HB-139 выше, чем у HL-200, и эта ситуация снова меняется при добавлении 5%. В целом, можно сделать вывод, что гидрофильный и гидрофобный пирогенный диоксид кремния демонстрируют схожие показатели прочности на сдвиг.
Для сравнения, можно увидеть, что гидрофильный пирогенный кремнезём HL-200 обладает определёнными преимуществами в плане объёмной прочности и реологического контроля фотоэлектрических клеёв, в то время как гидрофобный пирогенный кремнезём HB-139 обладает определёнными преимуществами в плане времени высыхания поверхности. С точки зрения прочности на сдвиг гидрофильный и гидрофобный пирогенный кремнезём демонстрируют схожие характеристики. Эти два типа демонстрируют взаимодополняющий характер. С ростом диверсификации областей применения фотоэлектрических модулей будущее требует передовых пирогенных кремнезёмных систем, обеспечивающих быстрое отверждение, исключительную атмосферостойкость и длительный срок службы.
Благодаря точному проектированию химии поверхности наполнителя можно добиться прорывных улучшений в комплексных характеристиках фотоэлектрических клеев, обеспечивая инновационные решения в области материалов для снижения затрат и повышения эффективности в фотоэлектрической промышленности.

